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열, 전기, 빛등의 외부 에너지를 사용하여 원료가스를 분해시켜 화학적 반응을 통해 기판상에 박막을 형성시키는 CVD 장비에서 핵심이 되는 Susceptor와 Diffuser의 당사 제품은 고온에서 장시간 사용함에도 더 오랜 수명을 유지할 수 있도록하는 당사만의 고유 열처리 기술과 컴퓨터 시뮬레이션 적용을 통한 Sheath Heater 설계기술, Chamber내 오염방지를 위한 양극산화 표면처리 기술을 제품에 적용함으로써, 타사 대비 우수한 내열성과 내식성을 확보하여 고객의 요구를 만족시키고 있습니다.

Susceptor(서셉터)

Susceptor는 LCD 제조 공정중 성막 공정인 CVD(Chemical Vapor Deposition, 박막 증착 기술 중 하나로 화학적 반응을 통하여 기판에 박막을 증착하는 기술)공정에서 Glass 지지와 Heating역할을 하는 제품이며, Glass에 최적의 온도를 제어 해줌으로서 실제 사용조건에서 뒤틀림이 없도록 평탄도를 유지시켜주는 기술이 적용되었다.

Diffusor(디퓨져)
  • Diffusor는 Susceptor와 함께 CVD공정 Chamber의 핵심부품으로서 CVD 공정상에서 GAS를 Glass위로 균일하게 확산시키는 역할을 한다. 당사의 제품은 높은 공정 온도(350~400℃) 내에서도 견딜 수 있는 Anodizing 기술 및 Dome형성을 위한 열처리 기술과 미세 가공 기술이 적용되었다.

 
박막 제조 방식
PVD(Physical Vapor Deposition) CVD(Chemical Vapor Deposition)
방식 물리적방식 화학적 방식
장점

- 저온증착 가능하다

- 불순물이 적다

- 모든 물질에 증착이 가능하다

- 부착력이 우수하다

- 다양한 재료에 적용이 가능하다

- 밀착성이 좋고 코팅층이 균일하다

- PVD에 비해 복잡형상도 가능하다

- 대량생산이 가능하다

단점

- 얇은 두께 조절이 어렵다

- 장비가 고가이다

- 증착 속도가 느리다

- 열이 많이 발생한다

- 소재가 변형될 우려가 있다

- 화학적 기체의 위험성이 있다

이해도